一个 95 后小伙的“自制光刻机”视频，引起一众网友“狂欢”。
近日，大连理工大学化工学院的大一学生彭译锋、B 站 UP 主“DUT-home_lab”，发表了题为《自制光刻机微纳加工 75µm工艺》的视频。
他声称自己用一张图纸搭建出一台纳米级光刻机，并光刻出 ~75µm（75000 nm）的孔径。
截止 7 月 11 日下午，视频已有近 24 万播放量。
图｜该视频播放量接近 24 万，图中人物为彭译锋
国内一家自媒体以《95 后 up 主低成本 DIY 纳米级光刻机！一图纸一书桌研究半年，挑战芯片制造最难环节》的标题，对该视频进行了报道。
随后，该报道被另一家媒体以《低成本 DIY 纳米级光刻机！这位 95 后男生火了…》的标题进行转载，文末留言中不乏“国家需要这种人才”“没看懂，但是感觉很厉害”等赞誉之词。
同日，大连理工大学化工学院的微信公众号，就该同学的实验视频，发布了以《挑战低成本 DIY 纳米级光刻机！人民网点赞这位化工小伙！》为标题的报道。
图｜大连理工大学化工学院的微信公众号的报道
以上报道发出后不久，涉事视频在国内某知名问答社区遭到“疯狂打假”。
目前，该校发布的报道显示“已被发布者删除”。彭译锋发在 B 站的视频，也已无法查看。
多名专业人士都认为，视频中的实验，违背了光刻机的工作原理。美国某量测设备供应商技术专家、新加坡南洋理工大学微电子专业博士李杨，正是上述问题的回答者之一。
DeepTech 联系到李杨，他分析了视频中的几处错误。
完全谈不上“自制光刻机”
视频中，彭译锋用一张照片，来作为设计图纸。李杨认为，拿照片当图纸去做“光刻机”，不只是不当、而是荒谬。
他说自己作为经过专业训练的前科研工作者，通过照片也只能确定照片中的光刻机，是德国 Karl Suss 公司的接触式光刻机，具体型号则无法辨别，而这位同学竟然说能通过一张照片仿造出光刻机？而他之所以能认出照片中的光刻机，是因为在过往从业经验中，他已经非常熟悉该公司产品。但对于一般人来说，彭译锋手持的照片，真的就只是一张照片，并不能称之为图纸。
通过这张照片，一般人很难看出光刻机各部件的尺寸、光源和光路等信息，更无法判断这台光刻机用的是透镜、还是反射镜，也无法判断出这台光刻机，是如何设计对板系统、以及如何操作光强测量校准等。
图｜彭译锋把照片作为图纸（来源：B 站）
某知名国际半导体公司的高级光刻技术工程师陈欧文（化名）认为，彭译锋视频里的“光刻机”，就是直接从网上买来激光雕刻机成品，然后进行了组装。
只不过激光雕刻机，是在其他材料上进行雕刻，而彭译锋则是使用激光束，对光刻胶进行曝光，然后显影出图形来。
图｜陈欧文表示视频中的光刻机，淘宝就能买到
具体到分辨率上，和激光雕刻其他材料没有差别，也没有任何实用的技术点。并且，激光雕刻机严格意义上并不算是光刻机，所以完全谈不上自制光刻机。
违背光刻机工作原理
李杨还认为，彭译锋的视频，肯定没有使用光刻机工作原理。光刻技术的核心，是把光刻掩膜版上的图形，转移到硅晶圆上。
早期的接触式和接进式光刻机，其图形是按照大小比例 1：1 转移到硅晶圆。
而光刻机发展到投影式，掩膜版上的图形是按照 4：1 或者 5：1 的比例转到硅晶圆。彭译锋做的所谓“光刻机”，光路只有激光光源，既没有掩膜版，也没有光学透镜组。
由于他是自己动手 DIY，受限于成本原因，他无法购买昂贵的透镜，这固然可以理解，但如果投射到硅晶圆上图形，只是激光光源的光斑，那就不是光刻，而只是简单的曝光。
绕过光刻掩膜版，讨论关键尺寸是毫无意义的，因为这根本不是光刻工艺需要完成的关键尺寸，所以也谈不上任何技术难度。
在视频中，彭译锋称自己“光刻出 ~75µm（75000nm）的孔径”，但是利用光源光斑，甚至能捣鼓出 50µm 或 20µm，但是没有任何用处。因此在这种情况下，讨论实现了多少纳米，根本无从谈起。
图｜彭译锋称自己“光刻出 ~75µm（75000nm）的孔径”
75um 工艺放在 50 年前都很落后
李杨表示，在当下半导体行业，Logic 工艺（该工艺是集成电路制造领域最为困难的部分）最先进的是三星和台积电，这两家公司已经量产 5nm 技术，并且正在攻坚 3nm 技术。
而 75µm 是 5nm 技术的 1.5 万倍、是 3nm 技术的 2.5 万倍。
当前，中国国产芯片的“扛把子”中芯国际，已经可以量产 14nm 的芯片，这样来算，当前中国最先进的芯片技术，是彭译锋实现的“75µm 工艺”的 5375 倍。
“75µm 工艺”有多么落后呢？以摩尔定律的技术路线图为例，从上面根本找不到 75µm的位置。
图｜摩尔定律路线图
陈欧文也告诉 DeepTech，早在 1971 年，英特尔就已发布首款微处理器 4004，并采用 10μm PMOS 技术生产。
目前市面上能买到的手机的处理器，比如麒麟 990、高通骁龙 865 等，都已使用 7nm 制程工艺，也就是比 75um 小一万倍的工艺。可以说，75um 放在 50 年前都不是先进工艺。
校友发言：很少有人认为学校宣传有问题
DeepTech 采访到彭译锋的校友——大连理工大学化学学院大三学生刘明蒿（化名），她表示，制备半导体在化学领域，也是一个热门方向，这可能是彭译锋“自研光刻机”的原因。
针对该视频，她说校内老师们目前还没有表态。在该校公众号报道了彭译锋的视频后，很多师生还转发上述文章，并借机给学校做宣传。
7 月 11 日下午，DeepTech 在 B 站上联系彭译锋，问他如何看待外界对于视频的质疑，他仅回复四个字：“玩具来的”。同日，该视频已经从 B 站删除。
对于该视频，前文的美国某量测设备供应商技术专家李杨表示，在校学生动手创造值得肯定，学生的想法和动手能力，当然不能被扼杀，但前提是原理不能出错。不然就会画虎不成反类犬，且会误导更多不明真相的人。
西南交通大学信息学院电子工程系副系主任邸志雄博士则认为，从作品实际效果来看，该同学连光刻技术的入门门槛，都没有摸到。
他对于正胶、负胶等没有基本概念，也分不清楚光刻技术、刻蚀技术和激光雕刻的区别。但对于二十来岁的大一学生来说，视频中的实验难度，远大于课堂上的实验，他不仅敢想敢做，并能利用现有局限条件，实现出一个基本模型，工作完整性和可演示性也都尚可。
在他知识体系有限的情况下，做成这样已经很优秀，不能过于苛责。实验本身，也可以吸引更多人关注光刻机技术。如果他能够提升知识体系和科研素养，未来一定可期。
清华大学新闻与传播学院教授、博士生导师沈阳也认为，首先要鼓励年轻人积极探索科学实验，这有助于全民科学素养的提升。
他举例称，美国已经有高中生在家做核试验，中国在此还有很大提升空间。不管是在学校、在研究机构还是在家，都应鼓励年轻人挑战创新型科学实验。
从本质上说，科学研究服务于个人兴趣，只有真正对它感兴趣、才能做到极致。所以要提倡青少年基于兴趣，来展开科学实验，而非基于某一技术是否是当下的“网红技术”来做实验。
国产光刻机应冷静对待现状
光刻机技术，是当前中国的“卡脖子”技术之一，某知名国际半导体公司的高级光刻技术工程师陈欧文认为，国人应该静下心来、去研发真正可以投入实用的产品。
类似本次视频发布之后，部分媒体的“放卫星”行为，则会鼓吹不正之风，而一些公司、科研单位和院校也乐于借助国内光刻机困境博眼球。
但是，一定要认清现状。目前中国仅有的一家光刻机研发公司，是上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称 SMEE）， 虽然和业界顶尖的 ASML 差异巨大，但是已经是可以做到 90nm 水平，并且有成品发布。
图｜SMEE 的光刻机（来源：SMEE 官网）
陈欧文表示，荷兰光刻机公司 ASML 早已领先业界，国内光刻机研发仅有上海微电子一家，且该公司成立仅 18 年，并没有多少积累，国家也没有给予较多重视。网传上海微电子十年间研发经费只有 6 亿，而 ASML 的一台高端光刻机，售价就是 6 亿。
但陈欧文认为，这总比没有强，虽然也有报道称上海微电子的光刻机、已经应用在国内晶圆厂，但应该只是一种合作试用，还谈不上卖出去。
如果国内晶圆厂，真的能把上海微电子的光刻机使用起来，虽然性能比较低，但通过在使用过程中发现问题、然后进行升级迭代，也会非常有利于国产光刻机研发。
欧洲半导体设备供应商 EVG 合作伙伴技术应用经理魏宏亮也认为，相比国外光刻机公司，中国应加强和使用端客户的互动，在工艺中不断完善和提升。具体来讲，中国光刻机中的合金、光刻胶、备件、光路系统等材料，仍需快步追赶。
对于本次出现的夸张报道，清华大学新闻与传播学院教授、博士生导师沈阳认为，媒体在报道时，既要报道这类青少年参与科研的热情，同时也要报道实验中的不足。如果媒体没有分辨能力，则需引入专业人士进行点评。
只有这样，才不会引起舆论泡沫，也有利于培养青少年的科学素养，并引导他们抱持理性态度搞科研。
创新素养的培养，是一个长期过程，不可能一蹴而就。而这种报道所引起的、网友“一哄而上”的浮夸之风，反而会损害青少年的科技创新。
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