有五个选项可用于设置边界条件和边界条件。
常规：设置2d/3d、背景折射率和模拟时间(注意：如果在运行期间过程完成到100%，则模拟时间太短，需要进行修改)； FDTD解决方案的缺省模拟时间为1000fs，需要足够的时间使结果收敛。 另一方面，如果小于用户定义的电场强度，模拟将自动结束。 默认设置为1E^5。 模拟时间通常是光通过高折射率材料模拟区域所需的时间的至少两倍(chooseasimulationtimethatisatleastastwiceaslongasthetimeitwouldtakelights )
ndex of refraction )，eg: t>； 2nL/c
几何树：设置模拟区域的大小；
建议设置网格类型、网格精度和子网格处理(材料界面处理)，并使用默认的自适应网格。 精度为缺省值2 )初始使用(根据需要提高精度)，材料界面处理选择缺省值0 (注意： conformal variant 1通常仅用于低折射率对比度，并不一定适用于所有金属材料) 通常，这些局部网格用于进一步细化局部网格，如几何细节、高密度区域和感兴趣的量的局部变化梯度较大。 当然，如果需要，也可以覆盖整个模拟区域，但一般不推荐。 在某些情况下，网格反而会变粗。 除非清楚原因和结果，否则必须谨慎使用这种粗糙化网格。 mesh的典型应用是dx=dy<； lamda/(10n )，n是材料中最高折射率
边界约束： PML :完美匹配层，吸收(最低反射)边界，吸收所有传输的电磁波。 相当于无限远地传播； 设置成PML边界距离物体至少半个波长左右。 (可以需要一个波长) PML不仅吸收入射光源，还吸收演进场(evanescent field ) Metal:反射边界，因此电场全部反射； Periodic:仅在周期结构、平面波入射的情况下使用(切断光源，不产生衍射边缘效应)。 光源正在入射。 如果光源和坐标轴有角度，则必须在有角度的平面中使用Bloch边界条件。 Periodic是Bloch的特殊情况
Bloch:是周期的常见形式； 这是普遍的边界条件，数学上要求仅对指定波长具有指定的入射角，其他波长的实际入射角与指定的入射角不同，因此一般适合单波长计算。
对称/不对称边界条件。 要求：结构对称性、光源偏振也必须对称。
高级选项：此处主要注意自动关机设置。 通常默认为1E-05，但也可以更改得更小。
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原文链接： https://blog.csdn.net/Hechuan Wang/article/details/95976174
拟合问题仿真的拟合数据准确，要求实际拟合均方差大于拟合误差，即Rms error大于fit tolerance
如果拟合不成功，一般减小拟合误差，增加max的个数(
最大拟合系数(max coefficients )由拟合误差(fit tolerance )和虚部权重)决定，并不允许超过12。
实部拟合好、虚部拟合差时，虚部权重大于1、小于1。
如果光源倾斜入射，或者扫描波长以获得光谱宽度，则必须设置“specify fit range”
高级FDTD区域设置
PML :电磁波的全吸收
METal :全反射
Periodic:周期的结果适应平面波(垂直1入射)，
Bloch:Periodic的一般形式，斜入射光源必须使用它。
对称/反对称：结构与光源偏振对称。
Pml方向边界距离结构至少半个波长
如果模拟未收敛到95%，则必须增加模拟时间。 关闭最小值通常小于10-6/-7，而mesh accuracy设置为4/6精度。
对称和反对称：物体在垂直于电场偏振方向的平面上对称，使用反对称a-s，***平行对称面使用对称s条件。
设置PML图层数
一般来说，第一种情况是有表面波的波纹的情况是第二种，光源的入射角或衍射角大的情况是第三种，改变pml参数的情况是第四种。
dt稳定因子尽量为1，越小越费时间
光源的设置
全场散射场光源：主要用于反射界面、吸收界面、消光界面。
平面波的范围必须超过模拟区域
设定方位角。 angle theta是xz面的俯仰角，angle phi是yz面的方位角。 这两个决定了传播方向。 极化角度是偏振角(0度偏振面与传播方向垂直)。
蓝色箭头指向电场的偏振方向。 (如果是偏振方向对称的结构，则对于偏振不明显，但如果有光栅则不同)
设置时间域用于设置连续脉冲。
高斯光束设定：
dipole光源的(oled常用)模式光源
求出光入射后相位