荷兰ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备。
所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率。
据elec报道，周二在韩国首尔，ASML CEO Peter Wennink透露，高NA EUV光刻机系统的单台造价将在300亿到350亿欧元之间，约合人民币2195到2561亿元。
这是什么概念？
ASML目前在售的双工件台EUV光刻机不过数亿美元，此前有调侃说相当于一架F22/35战机。而下一代产品不仅身价上调百倍，别说战机，这么一大笔钱“造航母”都够了。
在举个简单的例子，2021财年Intel的净利润总额是199亿美元，换言之，Intel忙活一年挣的钱，买一台高NA EUV光刻机都不够……
不过，此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态。
按照ASML的说法，高NA EUV光刻机将在2024年进厂投入使用，预计年产能20台左右。该公司还预计其营收将在2025年翻一番。
