标签： EUV 光刻机

9 月 16 日消息，台积电研究大将米玉傑博士透露，台积电将在 2024 年取得 ASML 下世代极紫外光微影设备（high-NA EUV），为客户发展相关的基础设施与架构解决方案。 台积电业务开发副 … Continue reading 台积电将于 2024 年取得高 NA EUV 光刻机，有助于 2nm 工艺量产