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台积电将于 2024 年取得高 NA EUV 光刻机，有助于 2nm 工艺量产

台积电将于 2024 年取得高 NA EUV 光刻机，有助于 2nm 工艺量产

9 月 16 日消息，台积电研究大将米玉傑博士透露，台积电将在 2024 年取得 ASML 下世代极紫外光微影设备（high-NA EUV），为客户发展相关的基础设施与架构解决方案。 ...

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