ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”,助英特尔开启工艺进化

感谢网友 Diixx 的线索投递! 2 月 28 日消息,英特尔技术开发负责人 Ann Kelleher 在周二于圣何塞举行的 SPIE 光刻会议上提到他们已经在 ASML 新型高数值孔径 (High … Continue reading ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”,助英特尔开启工艺进化