标签： 刻蚀设备

8 月 22 日消息，今日，中微公司宣布，公司的电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第 2000 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。 中微公司指出，本批次运付的 CCP 刻蚀设备反应台有 Pri … Continue reading 中微公司：第 2000 个 CCP 刻蚀设备反应台付运

11 月 3 日消息，昨日，中微公司宣布，电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商。本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订 … Continue reading 中微公司：第 1500 个 CCP 刻蚀设备反应台顺利付运