中国科学院官网刊文称,上海光机所在计算光刻技术研究方面取得重要进展。
光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一,光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。
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- 业界
- 2021-06-10
近日,中国科学院官网上发布的一则研究进展显示,该团队研发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,随后这被外界解读为,已经5nm ASML的垄断,对此相关人士也是进行了回应。
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- 业界
- 2020-12-01
近日美国商务部工业安全局(BIS)宣布将六项新兴技术添加到《出口管理条例》(EAR)的商务部管制清单(CCL)中。
据了解,目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。
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- 业界
- 2020-10-25