标签： 光刻机

11 月 1 日消息，据日经亚洲新闻报道，台积电预计将于今年年底从 ASML 接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机，仅比英特尔晚了几个月。 Digitimes 今年 9 月还曾报道称，台积电首部 … Continue reading 台积电预计今年底从ASML接收首批High NA EUV光刻机

7 月 1 日消息，据台媒《工商时报》报道，台积电将在 2024~2025 年接收超 60 台 EUV 光刻机，而其今明两年在 EUV 光刻机上的投入将超 4000 亿新台币（备注：当前约 896.6 … Continue reading 消息称台积电今明两年将接收超 60 台 EUV 光刻机，相关投资超四千亿新台币

6 月 5 日消息，ASML 已经向英特尔交付世界首台商用 High-NA EUV 光刻机并完成安装，英特尔院士马克・菲利普斯（Mark Phillips）确认这台机器将于年内正式启用。 与之形成鲜明 … Continue reading ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 NA EUV 光刻机

3 月 27 日消息，据荷兰媒体 Bits&Chips 报道，ASML 官方确认新款 0.33NA EUV 光刻机 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻机的技术，运 … Continue reading ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术，晶圆吞吐量提升近 22%

感谢网友 Diixx 的线索投递！ 2 月 28 日消息，英特尔技术开发负责人 Ann Kelleher 在周二于圣何塞举行的 SPIE 光刻会议上提到他们已经在 ASML 新型高数值孔径 (High … Continue reading ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”，助英特尔开启工艺进化

2 月 13 日消息，荷兰半导体制造设备巨头 ASML 前天刚刚展示了其下一代高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机，还透露其 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价 … Continue reading ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单，预计到 2028 年可将年产量提高到 20 台

2 月 11 日消息，全球芯片制造巨头 ASML 公司近日展示了其最新款芯片制造设备 ——High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机。这台价值 3.5 亿欧元（备注：当前约 27.2 亿元人民币）的庞 … Continue reading ASML 展示价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机，重达 15 万公斤

感谢网友 软媒新友1933769、航空先生、OC_Formula 的线索投递！ 11 月 15 日消息，韩国今日电子新闻报道称，三星计划进口更多 ASML 极紫外（EUV）光刻设备。 虽然由于合同中的 … Continue reading 消息称三星将投资 10 万亿韩元用于半导体设备，大量采购 ASML EUV 光刻机