结合 N12FFC+ 和 N5 工艺,台积电已着手准备 HBM4 基础 Dies

5 月 17 日消息,台积电近日出席本周举办的 2024 欧洲技术研讨会,展示使用 12FFC+(12 纳米级)和 N5(5 纳米级)工艺技术制造的 HBM4 基础 Dies,从而提高 HBM4 的性能和能效。

翻译台积电设计与技术平台高级总监内容如下:

我们正与主要的 HBM 存储器合作伙伴(美光、三星、SK hynix)合作,在先进节点上实现 HBM4 全堆栈集成。12FFC+ 基础 Dies 在满足 HBM 性能要求的情况下具备成本优势,而 N5 基础 Dies 又可以在更低功耗下达到 HBM4 预期速度。

采用台积电 12FFC+ 工艺(源自该公司成熟的 16 纳米 FinFET 技术)制造的基础芯片将能够构建 12-Hi 和 16-Hi HBM4 存储器堆栈,容量分别为 48 GB 和 64 GB。

使用 12FFC+ 工艺将实现 “高性价比” 的基础芯片,这些芯片将使用硅内插件将内存连接到主机处理器。

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风君子

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